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日立高新磁控濺射器MC1000

品牌:日立 型號:MC1000 資料:日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了...
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離子研磨系統ArBlade5000

品牌:日立 型號:ArBlade5000 資料: 日立ArBlade 5000離子研磨系統能夠實(shí)現高產(chǎn)量,并制備廣域橫截面樣品。...